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第七十四章 蚀刻机研制(1/2)

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光刻机又名:掩模对准曝光机,常用的光刻机是掩膜对准光刻,是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术锻造,简单地说,光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片上,在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。

光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工,通过化学反应,物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分,再经历某些封装工艺,神奇硅片材料变废为宝,变成价值高昂的-电子芯片。

因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期,光刻机成为众人心中的重中之重,如果光刻机再有所突破,那么芯片领域会和高铁领域一样,突破西方国家封堵完成弯道超车。

“不过什么有话快说,别卖关子。”严教授瞪着周兴,催促地问:

“光刻机我是有研究过,不过,暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼,淡淡地说:

闻言,在场众人面色一松,露出意料之中的神色,脸上又带了一丝遗憾,神色复杂。

5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克,如果连光刻机也被周兴突破了,那他的研发能力未免也太吓人了。

光刻机可比蚀刻机复杂多了,芯片的核心是光刻机,光刻机的核心是镜头,目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机,这个技术的极限是14纳米级以上,10纳米以下的光刻机则要用到极紫外光刻(euv)技术,这项技术即使国外巨头都尚处于实验室向商业化发展的阶段,鸿沟般的巨大差距不是轻易就能跨越的。

众人失望之余,又觉得理所当然。

“暂时没别的想法你的意思是你还是有想法的咯”与其他人不一样,严教授格外留意周兴的回答,步步紧逼地问:

“严老,我们还是先把蚀刻机量产工艺拿下再说吧!研发嘛,总要一步一步来,不要好高骛远嘛!”迎着严教授探究的目光,周兴神秘地笑了笑,避重就轻地说:

有周小智这个研发辅助利器,又有虚拟实验这个优质的研究环境,系统任务还尚未结算,如果有需要,研发极限纳米级的光刻机难度也算大,不过,还是得控制一下节奏,不然被‘相关机构’抓去切片研究就得不偿失了。

“你小子奸猾似鬼,心里现在肯定在想别的鬼主意!”严教授瞪着周兴不相信地说:

“好啦!老严别再为难小兴了,时机到了该发生的事情自然而然就会发生。”方教授哭笑不得地看着严教授,插话道:

“是啊,现在手头上的事情比较重要,我们赶紧把这台新式蚀刻机试造出来。”徐教授精神振奋地说:

“对了,老严,这件事还没跟郑主任汇报吧你赶紧跟沟通一下。”刘教授突然想到了什么,提醒严教授道:

“嗯,我马上通知他。”严教授愣了一下,连忙拿起手机走到一旁拨打起来:

老顽固严教授被刘教授支开了,现场画风突然一变。

“小兴,系统撞击模块我刚才没听清楚,你再跟我讲一下。”胡教授向周兴询问道:

“小兴,控制器的芯片是要用那个型号,回头我准备一下。”刘教授看着周兴问:

“大志,把图纸和绘图工具拿过来。”方教授看向郭大志吩咐了一句,看着众人道:“大家辛苦一下,今晚务必把总程的图纸整出来。”

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